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가시광 촉매의 휘발성유기화합물 분해특성
The decomposition characteristic of VOCs on visible-ray photocatalyst

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  • 발행기관
    한국특허학회 바로가기
  • 간행물
    특허학연구 : 한국특허학회지 바로가기
  • 통권
    Vol.9 No.1 통권 20호 (2007.03)바로가기
  • 페이지
    pp.17-26
  • 저자
    김문찬
  • 언어
    한국어(KOR)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A36418

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원문정보

초록

영어
In this study, we characterized VOCs decomposition over visible-ray photocatalyst. We used toluene, xylene, MEK, ammonia as reactants. The decomposition efficiency was compared between visible-ray photocatalyst and UV-ray one. UV-visible absorbance, XRD, and TEM analysis technique were used for decomposition efficiency of VOCs by addition of metal catalyst.
Visible-ray photocatalyst was activated at visible-ray region(400~700nm). The wave length distributions of sunlight and regular floscene lamp are inclined to visible-ray region. The visible-ray photocatalyst is necessary for indoor reduction of VOCs. The visible-ray photocatalyst which used in this study, reduced VOCs dramatically, and we thought it was a eco-technology.
한국어
본 연구에서는 실내 공기질 악화의 주범인 휘발성유기화합물의 분해 특성을 알아 보기 위해 VOCs 물질인 Toluene, Xylene, MEK, Ammonia를 반응물로 하여 기존의 광촉매들과 연구 개발로 제조된 가시광 촉매에 의한 분해능을 비교 실험하였으며, metal 촉매의 첨가에 따른 분해효율 및 UV-visible absorbance, XRD, TEM 분석을 하였다.
가시광 촉매는 가시광 영역인 400~700nm에서 광촉매는 활성화된다. 태양광의 대부분이 visible 영역에 있고 일부는 자외선 영역의 파장이 존재한다. 형광등은 태양광에 비해 자외선 조사량이 매우 적으므로 가시광선 영역의 파장이 대부분이다. 따라서 실내에서 형광등 불빛에서 반응하기 위해서는 가시광 영역에서 반응할 수 있는 가시광 촉매가 필요하게 된다. 본 기술은 기존의 광촉매 및 가시광 촉매의 문제점인 실내에서 VOCs 제거효율이 미미한 점을 획기적으로 개선하였고, 인체에 무해한 물질로 전환시키는 친환경적인 기술이다.

목차

요 약
 Abstract
 I. 서 론
 II. 이론적 배경
  2.1 휘발성유기화합물의 정의
  2.2 휘발성유기화합물의 영향
  2.3 광촉매의 원리
  2.4 광촉매의 기술동향
  2.5 가시광촉매의 기능효과
 III. 실 험
  3.1 촉매 제조
  3.2 촉매의 특성 분석
  3.3 실험 장치
 IV. 결과 및 고찰
  4.1 반응실험 결과
  4.2 가시광 촉매의 물성분석
 V. 결 론
 VII. 참고문헌

키워드

visible-ray photocatalyst decomposition characteristic Pt-Mn-TiO2 photocatalyst

저자

  • 김문찬 [ Moon-Chan Kim | 청주대학교 이공대학 환경학부 ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    한국특허학회 [KOREA INTELLECTUAL PATENT SOCIETY]
  • 설립연도
    1999
  • 분야
    공학>공학일반
  • 소개
    한국특허학회는 교수 및 과학기술인의 연구개발 의욕을 북 돋우며, 특허·실용신안 등 산업재산권의 인식제고에 크게 기여하여 학계, 과학기술계에 산업재산권에 대한 이해의 증진과 활성화에 많은 실제적 도움을 주고자 하며 더불어 정보·산업기술의 진보발전을 도모하여 산업발전에 기여하는 것을 목적으로 설립되었습니다.

간행물

  • 간행물명
    특허학연구 : 한국특허학회지 [JOURNAL OF KOREA INTELLECTUAL PATENT SOCIETY]
  • 간기
    연간
  • pISSN
    1598-8600
  • 수록기간
    1999~2016
  • 십진분류
    KDC 502 DDC 602

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