P. Suveetha Dhanaselvam, Dr.N.B.Balamurugan, P.Vanitha, S. Theodore Chandra
언어
영어(ENG)
URL
https://www.earticle.net/Article/A147351
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원문정보
초록
영어
For more than 30 years, the IC industry has followed a steady path of constantly shrinking the device geometries and increasing chip size. A new gate structure called the dual material gate (DMG) MOSFET was proposed which eliminates the effects of reduction of chip size. A 2D analytical approach of DMG is proposed in this paper and the solution to the Poisson equation is obtained using parabolic expansion method. Using the boundary conditions, the surface potential and electric field potential distribution is obtained for different work function and channel lengths.
목차
Abstract 1. Introduction 2. Analytical Model 3. Results And Discussion 4. Conclusion APPENDIX REFERENCES
키워드
Dual material gate (DMG) MOSFETparabolic expansionsurface potentialElectric field potential.
저자
P. Suveetha Dhanaselvam [ Lecturer, ECE Dept, VCET Madurai, India ]
Dr.N.B.Balamurugan [ Assistant Professor ECE Dept, TCE Madurai, India ]
P.Vanitha [ Assistant Professor ECE Dept, SIT Madurai, India ]
S. Theodore Chandra [ PG Student, ECE Dept, TCE Madurai, India ]
보안공학연구지원센터(IJAST) [Science & Engineering Research Support Center, Republic of Korea(IJAST)]
설립연도
2006
분야
공학>컴퓨터학
소개
1. 보안공학에 대한 각종 조사 및 연구
2. 보안공학에 대한 응용기술 연구 및 발표
3. 보안공학에 관한 각종 학술 발표회 및 전시회 개최
4. 보안공학 기술의 상호 협조 및 정보교환
5. 보안공학에 관한 표준화 사업 및 규격의 제정
6. 보안공학에 관한 산학연 협동의 증진
7. 국제적 학술 교류 및 기술 협력
8. 보안공학에 관한 논문지 발간
9. 기타 본 회 목적 달성에 필요한 사업
간행물
간행물명
International Journal of Advanced Science and Technology
간기
월간
pISSN
2005-4238
수록기간
2008~2016
십진분류
KDC 505DDC 605
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