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산 증식형 포토레지스트로 Poly(MTC10-co-tBMA90)의 합성 및 특성 연구
Poly[(1-methacryloyloxy-4-tosyloxycyclohexane)-co-(tert-butyl methacrylate)] as an acid amplifying photoresist
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- 발행기관
- 한국인쇄학회 바로가기
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- 간행물
- 한국인쇄학회지 바로가기
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- 통권
- 제20권 제2호 (2002.10)바로가기
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- 페이지
- pp.131-140
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- 저자
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- 언어
- 한국어(KOR)
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- URL
- https://www.earticle.net/Article/A137150
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원문정보
초록
- 영어
- Chemically amplified deep UV(CA-DUV) resists are typically based on a combination of an acid labile polymer and a photoacid generator(PAG) but acid amplification type photoresist is formulated by addition of the acid amplifiers to chemically amplified resist system(CAPs). We developed acid amplifiers base on cyclohexanediol such as 1-methacryloyloxy-4-tosyloxy cyclohexane(MTC) and poly(MTC10-co-tBMA90)(P-1) to enhance photosensitivity. P-1 is a copolymer of tert-butyl methacrylate and MTC as a positive working photoresist based on polymeric acid amplifier in order to enhance photosensitivity and simplify the process of fomulating a photoresist. P-1 exhibited 2X higher photosensitivity compared with PtBMA. The acid amplifiers showed reasonable thermal stability for resist processing temperature and higher photosensitivity compared with chemically amplified resist.
목차
Abstract
I. 서론
II. 실험
2-1. 시약 및 분석기기
2-2. 1-Methacryloyloxy-4-tosyloxy cyclohexane의 합성
2-3. Poly(MTC10-co-tBMA90)의 합성
III. 결과 및 고찰
3-1. 용해 특성
3-2. 열안정성 특성
3-3. 감도 특성
IV. 결론
참고문헌
저자
간행물 정보
발행기관
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- 발행기관명
- 한국인쇄학회 [THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
- 설립연도
- 1983
- 분야
- 공학>기계공학
- 소개
- 한국인쇄학회는 사회 일반의 이익과 인쇄 관련 기초과학, 재료, 응용에 관한 학문 및 기술의 체계화를 도모하고 다음의 사업을 행하여 인쇄산업분야의 발전에 기여함을 목적으로 한다.
간행물
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- 간행물명
- 한국인쇄학회지 [JOURNAL OF THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
- 간기
- 연간
- pISSN
- 1226-1149
- 수록기간
- 1983~2025
- 십진분류
- KDC 586 DDC 686
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