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평판인쇄용 Aluminum지지체의 표면처리에 관한 기초연구
The basic study on the surface treatment of aluminum substract for lithography
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- 발행기관
- 한국인쇄학회 바로가기
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- 간행물
- 한국인쇄학회지 바로가기
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- 통권
- 제12권 제2호 (1994.08)바로가기
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- 페이지
- pp.17-34
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- 저자
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- 언어
- 한국어(KOR)
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- URL
- https://www.earticle.net/Article/A136941
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원문정보
초록
- 영어
- Recently, the photopolymer made of novolak resin as the base and the naphthoquinonediazide(NQD) as the photoreactive compound is used for the presensitized plate(PS plate). The reaction mechanism of the NQD-novolak resin on light exposure is considered. Upon exposure it undergoes a Wolff rearrangement, via ketene intermediate which react with water ti form an 3-indene carboxylic acid. It was also found that NQD type resin in this experiment shows a high relative sensitivity compared with imported sample from Japan.
목차
Abstract
1. 序論
2. 電解硏磨 實驗
2-1 시료
2-2 실험장치 및 방법
2-3 전해메칭후의 표면성상 측정
3. 實驗結果 및 考察
3-1 전해온도의 영향
3-2 전해액농도의 영향
3-3 전류밀도의 영향
4. 結論
參考文獻
저자
간행물 정보
발행기관
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- 발행기관명
- 한국인쇄학회 [THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
- 설립연도
- 1983
- 분야
- 공학>기계공학
- 소개
- 한국인쇄학회는 사회 일반의 이익과 인쇄 관련 기초과학, 재료, 응용에 관한 학문 및 기술의 체계화를 도모하고 다음의 사업을 행하여 인쇄산업분야의 발전에 기여함을 목적으로 한다.
간행물
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- 간행물명
- 한국인쇄학회지 [JOURNAL OF THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
- 간기
- 연간
- pISSN
- 1226-1149
- 수록기간
- 1983~2025
- 십진분류
- KDC 586 DDC 686
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