현재 위치
Home
CMOS 공정 기반 산화하프늄 초박막 도파로 제작 및 광 전파 특성 연구
-
- 발행기관
- 한국정보통신설비학회 바로가기
-
- 간행물
- 한국정보통신설비학회 학술대회 바로가기
-
- 통권
- 한국정보통신설비학회 2025 하계학술대회 (2025.08)바로가기
-
- 페이지
- pp.71-72
-
- 저자
-
- 언어
- 한국어(KOR)
-
- URL
- https://www.earticle.net/Article/A474518
원문정보
목차
I. 서론
II. 본론
1. CMOS 공정 기반 HfO2 초박막 도파로 제작
2. 도파로 특성 변수 조절에 따른 초박막 도파로의광 전파 특성 분석
III. 결론
감사의 글
참고문헌
저자
간행물 정보
발행기관
-
- 발행기관명
- 한국정보통신설비학회 [Korea Institute of Information & Telecommunication Facilities Engineering]
- 설립연도
- 2001
- 분야
- 공학>전자/정보통신공학
- 소개
- 한국 정보통신 시설 및 설비에 대한 대학, 연구기관, 공공기관, 산업체 등의 관련자들의 연구활동을 통하여 학문적, 이론적 체계 확립과 구현 기술의 보편화를 이룩함으로써 한국 정보통신산업의 발전에 기여하고, 회원 상호간 학문적 발전의 도모를 목적으로 한다.
간행물
-
- 간행물명
- 한국정보통신설비학회 학술대회
- 간기
- 반년간
- 수록기간
- 2002~2025
- 십진분류
- KDC 567 DDC 621
이 권호 내 다른 논문 / 한국정보통신설비학회 학술대회 한국정보통신설비학회 2025 하계학술대회
피인용수 : 0건 (자료제공 : 네이버학술정보)
함께 이용한 논문 이 논문을 다운로드한 분들이 이용한 다른 논문입니다.
출처 : 네이버학술정보
0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.