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착용 마스크의 오염 패턴과 오염원 분석
Analysis of Contamination Patterns and Sources in Used Masks

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  • 발행기관
    국제차세대융합기술학회 바로가기
  • 간행물
    차세대융합기술학회논문지 KCI 등재 바로가기
  • 통권
    제8권 10호 (2024.10)바로가기
  • 페이지
    pp.2108-2116
  • 저자
    이동은
  • 언어
    한국어(KOR)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A457012

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원문정보

초록

영어
The aim of this study was to evaluate mask contamination used by dental hygienists and share the results. A total of 21 masks were collected from dental hygienists and analyzed. Average wearing time of mask was 59.4±3.1 min. The contamination level on the inside of mask was significantly higher (60.8±21.4 CFU) than on the outside (22.3±5.7 CFU) (T=2.31, p=0.028). The contamination levels on inside of the mask, where it comes into contact with the face, were higher on the lower left (41.0%) and lower right (35.9%) areas compared to the upper left (16.8%) and upper right (6.3%) areas. For the outside of the mask, contamination was highest on the upper right (45.6%), followed by the lower right (25.4%), upper left (19.0%), and lower left (10.0%). There was no significant correlation between the mask wearing time and the contamination levels on either the inside (r=0.382, p=0.088) or outside (r=-0.327, p=0.148). Staphylococcus epidermidis was frequently detected, and pathogenic bacteria such as Staphylococcus petrasii and Arsenicicoccus bolidensis were also founded. The study emphasizes the need for stringent infection control to prevent healthcare-associated infections.
한국어
본 연구는 치과 종사자의 마스크 오염도를 분석하고 그 결과를 공유하기 위해 실시되었다. 치과위생사가 업무 수행 시 착용했던 21개의 마스크를 수거하여 분석하였다. 마스크의 평균 착용 시간은 59.4±3.1분이었다. 마스크의 내면과 외면의 세균 오염도는 각각 60.8±21.4, 22.3±5.7 CFU로 마스크 내면의 오염도가 유의하게 높았다(T=2.31, p=0.028). 착용자의 얼굴과 맞닿은 마스크 내면의 경우 왼쪽 아래(41.0%)와 오른쪽 아래(35.9%)의 오염도가 왼쪽 위(16.8%)와 오른쪽 위(6.3%)보다 높았다. 마스크 외면 오염도는 오른쪽 위(45.6%), 오른쪽 아래(25.4%), 왼쪽 위(19.0%), 왼쪽 아래 (10.0%) 순이었다. 마스크 착용 시간과 마스크의 내면 오염도(r=0.382, p=0.088) 및 외면 오염도(r=-0.327, p=0.148) 사이에는 상관성이 없었다. 마스크 내면과 외면에서 Staphylococcus epidermidis가 많이 검출되었고, Staphylococcus petrasii, Arsenicicoccus bolidensis와 같은 병원성 세균 또한 검출되었다. 치과 종사자의 오염된 마스크를 매개로 의료관련감염이 발생할 수 있음을 고려하여 더욱 철저한 감염 관리가 이루어져야 함을 알 수 있다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 재료 및 방법
2.1 대상자 모집
2.2 실험 절차
2.3 구강 상태 평가
2.4 생균 수 측정
2.5 세균 종 확인
2.6 데이터 분석
Ⅲ. 결과
3.1 착용 마스크 오염도
3.2 착용 마스크 내면 오염 패턴
3.3 착용 마스크 외면 오염 패턴
3.4 마스크 착용 시간과 세균 오염도
3.5 세균 종
3.6 마스크 내면 오염원과 구강 상태
Ⅳ. 논의 및 결론
REFERENCES

키워드

마스크 오염 세균 의료관련감염 치과위생사 DNA 염기서열 분석 Mask contamination Bacteria Healthcare-Associated Infection Dental Hygienist DNA sequencing

저자

  • 이동은 [ Dong-Eun Lee | 울산과학대학교 치위생학과 교수 ] Corresponding Author

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    국제차세대융합기술학회 [International Next-generation Convergence technology Association]
  • 설립연도
    2017
  • 분야
    복합학>기술정책
  • 소개
    Ever since next generation convergence technology became one of the most important industries in the nation, computing professionals have encountered a growing number of challenges. Along with scholars and colleagues in related fields, they have gathered in avariety of forums and meetings over the last few decades to share their knowledge, experiences and the outcome of their research. These exchanges have led to the founding of the International Next-generation Convergence technology (INCA) on December 1, 2015. INCA was registered as an incorporated association under the Ministry of Information and Communications. The main purpose of the organization is to improve our society by achieving the highest capability possible in next generation convergence technology.

간행물

  • 간행물명
    차세대융합기술학회논문지 [The Journal of Next-generation Convergence Technology Association]
  • 간기
    월간
  • pISSN
    2508-8270
  • 수록기간
    2017~2026
  • 등재여부
    KCI 등재
  • 십진분류
    KDC 506 DDC 606

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