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A Study on the Optimization of Semiconductor Processes through the Examination of Process Parameters in Photolithography
광식각 공정의 공정 파라미터에 대한 고찰을 통한 반도체공정 최적화 방안 연구

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  • 발행기관
    국제차세대융합기술학회 바로가기
  • 간행물
    차세대융합기술학회논문지 KCI 등재 바로가기
  • 통권
    제8권 10호 (2024.10)바로가기
  • 페이지
    pp.2085-2091
  • 저자
    Yongbin Kim, Yongho Choi
  • 언어
    영어(ENG)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A457009

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원문정보

초록

영어
Photolithography is essential in semiconductor manufacturing for defining intricate patterns with high precision, enabling densely packed integrated circuits crucial for modern electronics. Its high resolution ensures the functionality and performance of components, while its repeatability and scalability make it cost-efficient for mass production. This study presents a method to optimize exposure and development times in photolithography, considering target critical dimension and wafer reliability. These optimization techniques can also be applied to other semiconductor processes like etching and deposition, enhancing overall manufacturing efficiency and reliability.
한국어
반도체 소자의 크기가 작아지고 소재가 다양해지면서 식각 공정의 정밀도, 소재 종류에 따른 선택성, 공 정 신뢰성이 더욱 중요해지고 있습니다. 포토리소그래피는 반도체 공정에서 정밀한 패턴을 구현하는 데 핵심 공정 이며, 이는 고밀도 반도체 소자를 가능하게 합니다. 고밀도 반도체 소자는 기능과 성능이 향상되며, 고밀도 반도체 소자 공정은 공정 신뢰성 확보가 중요합니다. 본 연구는 반도체 소자의 목표 임계 치수와 웨이퍼 공정 신뢰성을 고려하여, 광식각 공정의 노출 시간과 현상 시간을 최적화하는 방법을 제시합니다. 이러한 최적화 기술은 에칭 및 증착과 같은 다른 반도체 공정에도 적용되어 전체 공정 효율성과 신뢰성을 향상시킬 수 있습니다.

목차

Abstract
요약
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Photolithography in Modern Semiconductor Manufacturing
Ⅲ. Experiment and Discussion
Ⅳ. Result
REFERENCES

키워드

반도체 광식각 공정 공정 최적화 광식각 노출 시간 광식각 현상 시간 웨이퍼 공정 신뢰성 Photolithography Process optimization Exposure time Development time Wafer reliability

저자

  • Yongbin Kim [ 김용빈 | Student, Department of Semiconductor Engineering, Jungwon University ]
  • Yongho Choi [ 최용호 | Professor, Department of Semiconductor Engineering, Jungwon University ] Corresponding Author

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    국제차세대융합기술학회 [International Next-generation Convergence technology Association]
  • 설립연도
    2017
  • 분야
    복합학>기술정책
  • 소개
    Ever since next generation convergence technology became one of the most important industries in the nation, computing professionals have encountered a growing number of challenges. Along with scholars and colleagues in related fields, they have gathered in avariety of forums and meetings over the last few decades to share their knowledge, experiences and the outcome of their research. These exchanges have led to the founding of the International Next-generation Convergence technology (INCA) on December 1, 2015. INCA was registered as an incorporated association under the Ministry of Information and Communications. The main purpose of the organization is to improve our society by achieving the highest capability possible in next generation convergence technology.

간행물

  • 간행물명
    차세대융합기술학회논문지 [The Journal of Next-generation Convergence Technology Association]
  • 간기
    월간
  • pISSN
    2508-8270
  • 수록기간
    2017~2026
  • 등재여부
    KCI 등재
  • 십진분류
    KDC 506 DDC 606

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