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회절 광학 소자의 식각 오차율에 따른 영향치 분석
Analysis of the Impact of Etching Error Rate on the Performance of Diffractive Optical Elements
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- 발행기관
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- 혁신산업기술논문지 바로가기
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- 통권
- 제2권 제3호 (2024.09)바로가기
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- 페이지
- pp.101-108
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- 저자
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- 언어
- 한국어(KOR)
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- URL
- https://www.earticle.net/Article/A454922
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원문정보
초록
- 영어
- In this paper, compares and analyzes the influence of first and second etching errors on the occurrence of Hot Spot Ghosts caused by central light and diffraction symmetry, thereby determining the allowable deviation in exposure depth. During the development process of the Low Beam Head Lamp light distribution pattern in accordance with the ECE-R112 standard, the mask exposure etching depth exceeded the allowable limit by more than 116%, resulting in central light brightness above the permissible level. This study was conducted to reduce the occurrence of such non-compliant results. When the allowable deviation for the first exposure depth was set to 120% of the original design brightness, a depth deviation of -0.5% to +4% was observed. When the allowable deviation for the second exposure depth was set to 120% of the original design brightness, a depth deviation of -2% to +10% was observed. The appropriate tolerances identified in this study are expected to contribute to reducing errors in light distribution pattern implementation.
- 한국어
- 본 논문에서는 1차, 2차 식각 오차 별 영향치를 각각 중심광과 회절 대칭에 의한 Hot Spot Ghost의 발생 정도로 비교 분석하여 노광 깊이 편차 허용치를 확인하였다. Low Beam(변환빔) Head Lamp ECE-R112 규격의 배광 Pattern을 개발과정 중 Mask 노광 식각 깊이가 허용치보다 116% 이상 식각 되어 중심광이 허용치 이상의 밝기를 나타내었고 이와 같은 부적합 결괏값 발생을 줄이고자 연구를 실시하였다. 1차 노광 깊이 편차 허용치를 원 설계값의 120% 밝기로 설정 시 –0.5%~+4%의 깊이 편차의 발생을 확인하였으며 2차 노광 깊이 편차 허용치를 원 설계값의 120% 밝기로 설정 시 –2%~+10%의 깊이 편차의 발생을 확인하였다. 본 논문에서 확인한 적정 허용치를 통해 배광 Pattern 구현 시 결괏값 오차감소에 기여할 것으로 예상된다.
목차
요 약
Abstract
Ⅰ. 서론
1. 연구 배경
2. 식각 공정
3. 회절 광학 소자
4. 배경 이론
Ⅱ. 본론
1. 연구 방법
2. 기 진행된 연구 기반 시제품 제작 및 평가
3. 1차 Mask 깊이에 따른 중심광 편차 분석
4. 2차 Mask 깊이에 따른 회절대칭 편차 분석
Ⅲ. 결론
REFERENCES
키워드
회절 광학 소자 적응형 전조등 회절 노광 식각 Diffractive Optical Element Diffraction Exposure Etching저자
간행물 정보
발행기관
-
- 발행기관명
- 한국혁신산업학회 [The Korean Innovation Industry Society(KIIS)]
- 설립연도
- 2023
- 분야
- 공학>공학일반
- 소개
- 1. 혁신산업 융복합 기술 트렌드에 관한 다각적이고 깊이 있는 논의를 위한 국내 및 국제학술회의 개최를 개최함으로써 국내 융합기술의 발전 및 국제적 위상 강화 2. 산․학․연이 참여할 수 있는 국내 및 국제학술회의 개최를 통하여 혁신산업 융복합 기술의 발전 기반 조성 3. 학계, 관계, 산업계 전문가들의 창의적 융합기술에 대한 발표와 토론을 통하여 산‧학‧연 협력 체제를 더욱 확고히 함은 물론, 국내외 관련 단체와의 학술교류 및 협력으로 학문과 기술 발전에 공헌
간행물
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- 간행물명
- 혁신산업기술논문지 [The Journal of Innovation Industry Technology]
- 간기
- 계간
- pISSN
- 2983-2349
- eISSN
- 2983-2357
- 수록기간
- 2023~2026
- 십진분류
- KDC 559 DDC 629
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