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초록

영어

Since the process gas that is essential in the semiconductor process is a harmful gas, it is an essential task to solve it in an environmentally friendly manner. Currently, the cleaning technology used in the semiconductor process is mostly a wet cleaning based on hydrogen peroxide developed in the 1970s, and the SC-1 cleaning liquid for removing particles on the surface uses a mixture of ammonia and hydrogen peroxide. Therefore, environmental problems are caused, and economic problems caused by excessive water use are also serious. For this reason, the products developed through this study are used to decompose the process harmful gas from the chamber outlet into a harmless gas before entering the vacuum pump, or by incineration and the gaseous components are deposited on the pump. I want to solve the problem. In this paper, CPS (Confined Plasma Source) is proposed to save environment and improve productivity by replacing harmful gases (N2, CF4, SF6…., Etc) which are indispensable in semi-contamination process with innocuous gases or incineration with plasma, to study.

한국어

반도체 공정에서 필수적인 공정가스가 유해가스이기 때문에 이를 친환경적으로 해결하는 것이 필수과제이다. 현재 반도체 공정에서 사용되는 세정기술은 대부분이 1970년대 개발된 과산화수소를 근간으로 하는 습식 세정으로, 표 면의 입자를 제거하기 위한 SC-1 세정액은 암모니아와 과산화수소 혼합액을 사용하고 있다. 따라서 환경적 문제를 유발 하며, 또한 과도한 용수 사용으로 인한 경제적 문제도 심각하다. 이러한 이유로 본 연구를 통한 개발 제품은 챔버 출구에 서 나오는 공정 유해가스를 진공펌프에 입력되기 전 가스를 분해하여 해가 없는 가스로 만들거나 소각과 동시에 펌프에 가스의 성분이 증착되어 반도체 공정의 환경적 문제를 해결하고자 한다. 본 논문에서는 반도제 공정에서 필수 불가결하 게 사용되는 유해가스(N2, CF4, SF6…. 등)를 사람에게 무해한 가스로 치환하거나 플라스마로 소각하여 환경을 살리고 생산성 향상이 되도록 제안된 CPS (Confined Plasma Source)를 연구하고자 한다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
II. 국내외 기술 현황
III. Confined Plasma Power Source연구
IV. 연구결과
V. 결론
References

키워드

저자

• 윤용호 [ Yongho Yoon | 정회원, 광주대학교 전기전자공학부 ] Corresponding Author

참고문헌

발행기관

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• 간행물명

  한국인터넷방송통신학회 논문지 [The Journal of the Institute of Internet, Broadcasting and Communication]

• 간기

  격월간

• pISSN

  2289-0238

• eISSN

  2289-0246

• 수록기간

  2001~2025

• 십진분류

  KDC 326 DDC 380