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초록

영어

This study examines the effects of the acquisition activities of valid patents by manufacturing technology-based SMEs on business performance. The major finding of the study is that the acquisition activities of valid patents by afore-mentioned SMEs positively affects the performances related to new technology and new product. Specifically, first, we found that the patent development process management has a positive effect on the development capability of new technology as well as the quality of new product. The competitiveness of new technology is secured by systematically managing the patent development process. The performance is realized in terms of sales revenues. Further, we found that the application of new technology has a positive effect on securing the competitiveness of new technology. The findings support that the new technology possessed by the enterprise is a very important factor for acquiring competitive advantages in terms of technology and market performances. Lastly, it was found that fact that application for patent evasion has a positive effect on securing competitiveness of new technology, improving development ability of new technology, shortening development period of new product, and satisfying customer satisfaction of new product. The results support that patent infringement can be prevented by the patent application of the ideas derived from avoiding the problem in the design process. In addition, we discussed conceptual and managerial implications of our findings along with the limitations and future research directions.

한국어

본 연구는 제조기술 기반 중소기업의 유효특허권리화활동이 신기술 및 신제품 성과에 긍정적 영향을 미치고 있음을 규명하였다. 분석결과 첫째, 특허개발 프로세스 관리는 신기술의 개발능 력 향상과 신제품의 품질향상에 긍정적 영향으로 나타났다. 이는 체계적인 특허개발 프로세스 관리로 신기술의 경쟁력을 확보하고, 신제품의 적기출시, 가격인하, 품질향상 등으로 판매경쟁 우위를 통한 기업성과에 기여할 수 있음을 시사하고 있다. 둘째, 신기술 특허출원은 신기술의 경 쟁력 확보와 개발능력 향상에 긍정적 영향으로 분석되었다. 기업이 보유한 신기술은 시장에서 기술경쟁 우위와 신제품 개발에 매우 중요한 요인임을 입증하였다. 마지막으로, 문제특허 회피 출원은 신기술의 경쟁력 확보와 개발능력 향상, 신제품의 개발기간 단축과 고객만족에 긍정적 영향을 미침을 확인하였다. 이는 문제특허 회피설계 과정에서 도출된 아이디어를 특허출원으로 연계하여 특허침해를 사전에 방지할 수 있음을 시사한다. 나아가, 본 연구의 의의, 한계 및 향후 연구방향을 논의하였다.

목차

<요약>
 Ⅰ. 서론
 Ⅱ. 연구배경
 Ⅲ. 연구모형 및 가설
 Ⅳ. 실증분석
 Ⅴ. 결론 및 토론
 참고문헌
 Abstract

키워드

저자

• 정석화 [ Jeong, Seokhwa | 금오공과대학교 교양교직과정부 외래교수 ] 제1저자
• 신호균 [ Shin, Hokyun | 금오공과대학교 경영학과 교수 ] 교신저자

참고문헌

발행기관

간행물

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• 간행물명

  한국창업학회지 [Journal of the Korean Entrepreneurship Socieity]

• 간기

  격월간

• pISSN

  2092-8068

• 수록기간

  2006~2026

• 등재여부

  KCI 등재

• 십진분류

  KDC 325 DDC 658