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그래핀의 소수성을 이용한 선택적 알루미늄 옥사이드 증착
Selective deposition of Al2O3 on hydrophobic surface of graphene
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- 발행기관
- 한국기계항공기술학회(구 한국기계기술학회) 바로가기
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- 간행물
- 한국기계항공기술학회 학술대회논문집(구 한국기계기술학회 학술대회논문집) 바로가기
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- 통권
- 2015년도 한국기계기술학회 추계학술발표회 논문집 (2015.11)바로가기
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- 페이지
- pp.105-108
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- 저자
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- 언어
- 한국어(KOR)
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- URL
- https://www.earticle.net/Article/A276408
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원문정보
초록
- 영어
- Graphene could be damaged and contain impurities on its surface while several fabrications such as deposition, etching, and patterning because one needs photoresist masking operation to divide the section for deposition or not. In this paper, we investigated the effectiveness of selective atomic layer deposition for clean graphene surface. Atomic layer deposition (ALD) has strong point at very uniform conformity of 1 rms roughness. In this process, H2O is generally used by one of precursors. This H2O precursor make deposition of ALD on hydrophilic surface not hydrophobic. Therefore, we used this property at graphene which has hydrophobic surface. And then, we analyzed selective deposition of ALD on graphene which are grown on Cu foil and transferred by wet process not cleaved from HOPG.
목차
Abstract
1. 서론
2. 기존 선택적 원자층 증착의 문제점
3. 실험 및 결과
3.1 원자층 증착 검증
3.2 선택적 원자층 증착 검증
4. 결론
References
저자
간행물 정보
발행기관
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- 발행기관명
- 한국기계항공기술학회(구 한국기계기술학회) [Korean Society of Mechanical Technology]
- 설립연도
- 1999
- 분야
- 공학>기계공학
- 소개
- 기계 관련 산업 분야에 관한 학술과 현장 적용 기술을 연구하고 교류하며, 이에 관련된 학문과 기술 발전 및 보급에 기여함으로써 과학과 기술의 진흥에 이바지함을 그 목적으로 한다.
간행물
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- 간행물명
- 한국기계항공기술학회 학술대회논문집(구 한국기계기술학회 학술대회논문집) [Proceedings of KSMT Annual Meeting]
- 간기
- 부정기
- 수록기간
- 2000~2026
- 십진분류
- KDC 550 DDC 620
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