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Adduct Purification of Trimethylgallium using 4-Dimethylaminopyridine

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  • 발행기관
    보안공학연구지원센터(IJAST) 바로가기
  • 간행물
    International Journal of Advanced Science and Technology 바로가기
  • 통권
    Vol.41 (2012.04)바로가기
  • 페이지
    pp.55-60
  • 저자
    Selvakumar Dhanasingh, Rajendra Singh, Mohammed Nasim
  • 언어
    영어(ENG)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A206703

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원문정보

초록

영어
1:1 and 2:1 adducts of trimethylgallium (TMGa) with 4-dimethylaminopyridine (DMAP) were synthesized and characterized by 1H, 13C NMR, FAB-MS and Trace elemental analyses using ICP-MS. Both adducts are non-pyrophoric, thermally dissociable and easy to handle. FAB-MS study suggests that the adducts are associated in tetrameric forms. TMGa of purity more than 99.999% (5N) was released from these adducts, which shows the adducts are potential candidates to produce high pure metal alkyl sources for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD).

목차

Abstract
 1. Introduction
 2. Experimental Sections
  2.1 Synthesis of 4-dimethylaminopyridine.trimethylgallium Adduct (I):
  2.2 Synthesis of hexamethyl-μ-[4-dimethylaminopyridine] digallium (II):
  2.3 Thermal Cracking of Adducts to Release TMGa:
 3. Results and Discussion
 5. Conclusions
 References

키워드

Trimethylgallium pyrophoric MOCVD precursor adduct purification technique

저자

  • Selvakumar Dhanasingh [ Defence BioEngineering and Electromedical laboratory, C. V. Raman Nagar ]
  • Rajendra Singh [ Directorate of ER & IPR, DRDO Bhawan, Rajaji Marg ]
  • Mohammed Nasim [ 3Defence Materials & Stores Research and Development Establishment, DMSRDE P.O ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    보안공학연구지원센터(IJAST) [Science & Engineering Research Support Center, Republic of Korea(IJAST)]
  • 설립연도
    2006
  • 분야
    공학>컴퓨터학
  • 소개
    1. 보안공학에 대한 각종 조사 및 연구 2. 보안공학에 대한 응용기술 연구 및 발표 3. 보안공학에 관한 각종 학술 발표회 및 전시회 개최 4. 보안공학 기술의 상호 협조 및 정보교환 5. 보안공학에 관한 표준화 사업 및 규격의 제정 6. 보안공학에 관한 산학연 협동의 증진 7. 국제적 학술 교류 및 기술 협력 8. 보안공학에 관한 논문지 발간 9. 기타 본 회 목적 달성에 필요한 사업

간행물

  • 간행물명
    International Journal of Advanced Science and Technology
  • 간기
    월간
  • pISSN
    2005-4238
  • 수록기간
    2008~2016
  • 십진분류
    KDC 505 DDC 605

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