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Adaptive DeadBand를 애용한 반도체공정 제어
Research for Adaptive DeadBand Control in Semiconductor Manufacturing
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- 발행기관
- 대한안전경영과학회 바로가기
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- 간행물
- 대한안전경영과학회지 KCI 등재후보 바로가기
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- 통권
- 제7권 제5호 (2005.12)바로가기
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- 페이지
- pp.255-273
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- 저자
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- 언어
- 한국어(KOR)
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- URL
- https://www.earticle.net/Article/A154966
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원문정보
초록
- 영어
- Overlay parameter control of the semiconductor photolithography process is researched in this paper. Overlay parameters denote the error in superposing the current pattern to the pattern previously created. The reduction of the overlay deviation is one of the key factors in improving the quality of the semiconductor products. The semiconductor process is affected by numerous environment and equipment factors. Through process condition prediction and control, the overlay inaccuracy can be reduced. Generally, three types of process condition change exist; uncontrollable white noise, slowly changing drift, and abrupt condition shift. To effectively control the aforementioned process changes, control scheme using adaptive deadband is proposed. The suggested approach and existing control method are cross evaluated through simulation.
목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
2.1 Adaptive Deadband를 이용한 제어 방법
3. 실험 및 성능평가
3.1 대안
3.2 실험조건
4. 결론 및 추후과제
5. 참고문헌
키워드
Semiconductor Run-to-run EWMA DeadBand저자
간행물 정보
발행기관
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- 발행기관명
- 대한안전경영과학회 [Korea Safety Management & Science]
- 설립연도
- 1999
- 분야
- 공학>안전공학
- 소개
- 안전경영에 관한 학문과 기술을 발전,보급,응용하여 안전기술 및 관리기술의 진흥에 공헌하며, 재해예방을 통한 안전사회의 구현을 그 목적으로 함.
간행물
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- 간행물명
- 대한안전경영과학회지 [Journal of Korea Safety Management & Science]
- 간기
- 계간
- pISSN
- 1229-6783
- eISSN
- 2288-1484
- 수록기간
- 1999~2025
- 십진분류
- KDC 530 DDC 620
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