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Fine Line Lithography를 위한 Polymer Resist에 관한 연구
Studies on Polymer Resist for Fine Line Lithography

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  • 발행기관
    한국인쇄학회 바로가기
  • 간행물
    한국인쇄학회지 바로가기
  • 통권
    제11권 (1993.04)바로가기
  • 페이지
    pp.71-84
  • 저자
    박이순, 하기룡, 손세모
  • 언어
    한국어(KOR)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A136935

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4,600원

원문정보

초록

영어
Practically to put use high-photosensitive polymer, poly(vinyl cinnamoyl acetate), we investigated and confirmed UCHIDA`s synthesis, according to control solvent, which is the esterification of poly (vinyl alcohol) with monochloroacetic acid and can be freely conrolled the successive cinnamoyl acetoxyl esterfication of PVCiA, and intruducing photosensitizers,studied the photosensitivity of PVCiA.

목차

Abstract
 1. 서론
 2. 실험
  시약
  기기분석
 3. 결과 및 고찰
  3.1 네가형 포토레시스트
  3.2 포지형 포토레지스트의 성분 및 특성
 참고문헌

저자

  • 박이순 [ Lee-Soon Park | 경북대학교 고분자공학과 ]
  • 하기룡 [ Ki-Ryong Ha | 계명대학교 화학공학과 ]
  • 손세모 [ Se-Mo Son | 부산공업대학교 인쇄공학과 ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    한국인쇄학회 [THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
  • 설립연도
    1983
  • 분야
    공학>기계공학
  • 소개
    한국인쇄학회는 사회 일반의 이익과 인쇄 관련 기초과학, 재료, 응용에 관한 학문 및 기술의 체계화를 도모하고 다음의 사업을 행하여 인쇄산업분야의 발전에 기여함을 목적으로 한다.

간행물

  • 간행물명
    한국인쇄학회지 [JOURNAL OF THE KOREAN GRAPHIC ARTS COMMUNICATION SOCIETY]
  • 간기
    연간
  • pISSN
    1226-1149
  • 수록기간
    1983~2025
  • 십진분류
    KDC 586 DDC 686

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