Earticle

현재 위치 Home

Rigorous coupled-wave analysis를 이용한 극자외선 리소그래피에서 그림자 효과를 줄이기 위한 마스크 변형
Mask modification for the shadow effect reduction by Rigorous coupled-wave analysis in extreme ultraviolet lithography

첫 페이지 보기
  • 발행기관
    한양대학교 이학기술연구소 바로가기
  • 간행물
    이학기술연구지 바로가기
  • 통권
    제8집 (2005.12)바로가기
  • 페이지
    pp.43-47
  • 저자
    최민기, 신동수, 오혜근
  • 언어
    영어(ENG)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A106215

※ 기관로그인 시 무료 이용이 가능합니다.
※ 학술발표대회집, 워크숍 자료집 중 4페이지 이내 논문은 '요약'만 제공되는 경우가 있으니, 구매 전에 간행물명, 페이지 수 확인 부탁 드립니다.

4,000원

원문정보

목차

요지
 Abstract
 1. Introduction
 2. Theory
 3. Simulation
 4. Conclusion
 References

저자

  • 최민기 [ Min-Ki Choi | 한양대학교 응용물리학과 ]
  • 신동수 [ Dong-Soo Shin | 한양대학교 응용물리학과 ]
  • 오혜근 [ Hye-Keun Oh | 한양대학교 응용물리학과 ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    한양대학교 이학기술연구소 [Institute of Natural Science and Technology Hanyang University]
  • 설립연도
    1998
  • 분야
    자연과학>자연과학일반
  • 소개
    본 연구소는 국내외 학계, 연구기관 및 산업체와 상호교류 및 공동 연구 활동을 통하여 국내외 및 교내 자연과학의 활성화와 산업 발전에 기여하려고 한다. 또한 벤처기업의 창업을 독려하고 있으며, 운영위원회의 결정에 따라서 연구소의 행정 전반 사항을 편성하여 연구소를 운영하고 있다.

간행물

  • 간행물명
    이학기술연구지 [Journal of Natural Science and Technology]
  • 간기
    연간
  • pISSN
    2005-9051
  • 수록기간
    1999~2009
  • 십진분류
    KDC 405 DDC 505

이 권호 내 다른 논문 / 이학기술연구지 제8집

    피인용수 : 0건 (자료제공 : 네이버학술정보)

    함께 이용한 논문 이 논문을 다운로드한 분들이 이용한 다른 논문입니다.

      출처 : 네이버학술정보

        0개의 논문이 장바구니에 담겼습니다.

        페이지 저장
        소속기관 조회
        이용자님의 소속기관(단체)이 서비스에 가입되어 있는지 확인해 보십시오.
        기관회원에 소속되어 있는 이용자는 원문을 무료로 이용할 수 있습니다.