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극자외선 라소그래피에서 마스크 결함에 의한 이미지 특징
Aerial Image Characterization for Defects in an Extreme-Ultraviolet Mask

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  • 발행기관
    한양대학교 이학기술연구소 바로가기
  • 간행물
    이학기술연구지 바로가기
  • 통권
    제7집 (2004.12)바로가기
  • 페이지
    pp.65-72
  • 저자
    유명술, 박승욱, 김옥경, 오혜근
  • 언어
    영어(ENG)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A106194

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원문정보

목차

요지
 Abstract
 1. Introduction
 2. Modeling
 3. Results
 4. Conclusion
 References

저자

  • 유명술 [ Myoung-Sul Yoo | 한양대학교 응용물리학과 ]
  • 박승욱 [ Seung-Wook Park | 한양대학교 응용물리학과 ]
  • 김옥경 [ Ok-Kyung Kim | 한양대학교 응용물리학과 ]
  • 오혜근 [ Hye-Keun Oh | 한양대학교 응용물리학과 ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    한양대학교 이학기술연구소 [Institute of Natural Science and Technology Hanyang University]
  • 설립연도
    1998
  • 분야
    자연과학>자연과학일반
  • 소개
    본 연구소는 국내외 학계, 연구기관 및 산업체와 상호교류 및 공동 연구 활동을 통하여 국내외 및 교내 자연과학의 활성화와 산업 발전에 기여하려고 한다. 또한 벤처기업의 창업을 독려하고 있으며, 운영위원회의 결정에 따라서 연구소의 행정 전반 사항을 편성하여 연구소를 운영하고 있다.

간행물

  • 간행물명
    이학기술연구지 [Journal of Natural Science and Technology]
  • 간기
    연간
  • pISSN
    2005-9051
  • 수록기간
    1999~2009
  • 십진분류
    KDC 405 DDC 505

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