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Aerial image prediction for mask defect in extreme ultraviolet lithography

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  • 발행기관
    한양대학교 이학기술연구소 바로가기
  • 간행물
    이학기술연구지 바로가기
  • 통권
    제6집 (2003.12)바로가기
  • 페이지
    pp.89-93
  • 저자
    Jong-Hoi Kim, Sang-Jin Sim, Young-Keun Kwon, Myung-Sul Yoo, Seung-Wook Park, Ilsin An, Ok-Kyoung Kim, Hye-Keun-Oh
  • 언어
    영어(ENG)
  • URL
    https://www.earticle.net/Article/A106133

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원문정보

목차

Abstract
 1. Introduction
 2. Basic equations for the FDTD
 3. Basic modeling of EUV masks
 4. Modeling of defects on EUV masks
 5. Simulation results
 6. Discussion and Conclusion
 References

저자

  • Jong-Hoi Kim [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Sang-Jin Sim [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Young-Keun Kwon [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Myung-Sul Yoo [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Seung-Wook Park [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Ilsin An [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Ok-Kyoung Kim [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]
  • Hye-Keun-Oh [ Department of Applied Physics, Hanyang University ]

참고문헌

자료제공 : 네이버학술정보

간행물 정보

발행기관

  • 발행기관명
    한양대학교 이학기술연구소 [Institute of Natural Science and Technology Hanyang University]
  • 설립연도
    1998
  • 분야
    자연과학>자연과학일반
  • 소개
    본 연구소는 국내외 학계, 연구기관 및 산업체와 상호교류 및 공동 연구 활동을 통하여 국내외 및 교내 자연과학의 활성화와 산업 발전에 기여하려고 한다. 또한 벤처기업의 창업을 독려하고 있으며, 운영위원회의 결정에 따라서 연구소의 행정 전반 사항을 편성하여 연구소를 운영하고 있다.

간행물

  • 간행물명
    이학기술연구지 [Journal of Natural Science and Technology]
  • 간기
    연간
  • pISSN
    2005-9051
  • 수록기간
    1999~2009
  • 십진분류
    KDC 405 DDC 505

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